光学轮廓仪技术特点

共聚焦

共聚焦技术可以用来测量各类样品表面的形貌。它比光学显微镜有更高的横向分辨率，可达0.09um.利用它可实现临界尺寸的测量。当用150倍、0.95数值孔径的镜头时，共聚焦在光滑表面测量斜率达70°（粗糙表面达86°）。专利的共聚焦算法保证Z测量重复性在纳米范畴。

相位差干涉

相位差干涉是一种亚纳米级精度的用于测量光滑表面高度形貌的技术。它的优势在于任何放大倍数都可以保证亚纳米级的纵向分辨率。使用2.5倍的镜头就能实现超高纵向分辨率的大视场测量。

白光干涉

白光干涉是一种纳米级测量精度的用于测量各种表面高度形貌的技术。它的优势在于任何放大倍数都可以保证纳米的纵向分辨率。

多焦面叠加

多焦面叠加技术是用来测量非常粗糙的表面形貌。根据Sensofar在共聚焦和干涉技术融合应用方面的丰富经验，特别设计了此功能来补足低倍共聚焦测量的需要。该技术的最大亮点是快速（mm/s）、扫描范围大和支援斜率大（最大86°）。此功能对工件和模具测量特别有用。